硅胶制品怎么去除静电？通过学习物理知识我们可以了解到，气球摩擦后会附带正电荷，硅胶摩擦后会附带负电荷，由此产生了静电。静电会吸附周围的尘埃，使硅胶制品变脏。硅胶产品如何去除静电是许多人关注的问题，今天伟顺硅胶小编就为大家介绍硅胶制品怎么去除静电，一起来看看吧。

理论上，硅胶表面存有氧气原子，带负极和静电，尘粒则带有正极，因此尘粒和硅胶静电表面可互相吸引，使表面沾尘难于清理，影响产品外观。针对硅胶表面容易沾尘的问题，硅胶制品厂致力研究解决方案，结果发现，利用等离子表面改性技术可改善有关表现，最终成功以等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)技术，达到优化硅胶制品表面性质的效果。

受静电影响，一般硅胶制品容易沾尘，厂商若以传统化学涂层方法，防尘及润滑涂层功效只可维持数个月。好的方法是以等离子能量将硅胶表面的氧气原子改性，将负极硅胶表面改为正极，过程中使用无害的有机化学品，不会排出污染废料，因此是清洁生产工艺。其较低静电量特质，防尘效用高，适用于手表表带等，亦可用于医疗设备。

等离子体表面处理技术适用于纤维、聚合物和塑胶等物料，亦可应用于清洗、活化及蚀刻金属、塑胶与陶瓷材料的表面部分，改变材料表面的物理特征。硅胶制品防尘处理环保工艺，可有效解决硅胶静电、容易沾尘问题，延长产品寿命，是一种硅胶表面处理工艺。它可应用于所有硅胶及相关产品。

高能量脉冲式等离子磁控溅射技术(HPPMS)是结合「高能量」和「脉冲式」两大特征的新型磁控溅射系统。在镀层过程上，电源扮演重要的角色，采用「高能量」和「脉冲式」的放电方式，可于少于2微秒的短时间，发出高达1500V输出电压的强大能量，犹如闪电现象。由于过程中释放大量的离子，消除镀膜的内应力，因此可制成厚离子镀层，无损产品或工件的表面。这种方式可提高离化率(IonizationRate)，即改善涂层在硅胶制品品表面的附着力。

高能量脉冲式等离子磁控溅射技术，能超越传统的磁控溅射方法，制作出高质量多于3μm的厚离子镀层。由于高能量脉冲方式有利增加离子的密度，不但加强镀层与底材之间的接合力，亦可减低表面粗糙度，在功能性部件上可进一步增强耐磨性能及减少替换次数。

对装饰性强的硅胶产品来说，可保持外观及更耐用，因此以高能量脉冲式制作镀层，能有效利用等离子体，从而控制涂层的结构，其特点是可沉积在光滑致密的微细结构，提升耐腐蚀性及表面光洁度。又或是可沉积在复杂的几何工件之上，达致更均匀的涂层。

东莞伟顺硅胶科技有限公司成立于2003年，一直以“合理的价格”、“高质量的产品”、“准时的交货期”、“良好的信誉服务”为基本准则，工厂面积1500㎡，各类机台设备20多台，年生产各类硅胶产品150多吨，产品销往国内各省市、欧美、非洲、亚洲等国家和地区。

硅胶制品的静电我们可以涂抹一层涂层或者是让硅胶表面的氧气原子改性，两种方法都是可行的。小编文章就到这里了，谢谢大家的阅读。《硅胶厂是怎么选择原材料的，看完你就明白了[今日资讯]》